Materjal tal-Kisi PVD
-
![4N ZrO2 Sputtering Mira Bil Cu Backplate]()
4N ZrO2 Sputtering Mira Bil Cu BackplateIl-miri tagħna ta 'sputtering tad-dijossidu taż-żirkonju bi pjanċi ta' rinforz huma fabbrikati bl-użu ta' materjal ta 'dijossidu taż-żirkonju ta' purità għolja-, magħqud b'mod sikur ma 'pjanċa ta'...Aktar -
![ZrC Sputtering Target Bil Cu Backplate]()
ZrC Sputtering Target Bil Cu BackplateIl-miri tagħna ta 'sputtering tal-Karbur taż-Żirkonju (ZrC) bi pjanċi ta' rinforz tar-ram għandhom rabta robusta bejn il-materjal tal-mira ZrC ta 'purità għolja-u l-appoġġ tar-ram. Dan id-disinn...Aktar -
![Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target]()
Ta 5at% Doped ZrC Sputtering TargetDoping preċiż ta 'Zirconium Carbide bi proporzjon atomiku ta' 5 fil-mija ta 'Tantalu jtejjeb b'mod sinifikanti r-reżistenza għat-temperatura għolja-tal-materjal fil-mira, ir-reżistenza għal xokk...Aktar -
![4N IGZO Sputtering Target]()
4N IGZO Sputtering TargetIl-miri tagħna ta 'sputtering 4N IGZO jagħtu prestazzjoni ta' sputtering aktar stabbli u effiċjenti. Speċjalizzati għal applikazzjonijiet ta 'wiri u semikondutturi high-, jiffaċilitaw...Aktar -
![4N HfO2 Mira Bil Cu Backplate]()
4N HfO2 Mira Bil Cu BackplateIl-Mira ta 'Sputtering 4N HfO₂ b'Support tar-Ram tutilizza materjal ta' ossidu ta 'l-afnju ta' purità ta '99.99%. Integrat b'rinforz tar-ram, joffri konduttività termali eċċellenti u huwa...Aktar -
![4N HfO2 Doped B'2% Ti Mira]()
4N HfO2 Doped B'2% Ti MiraIl-mira ta' sputtering ta' HfO₂ 2% Ti-doped hija fabbrikata bl-użu ta' sottostrat ta' ossidu tal-ħafnju ta' purità għolja-, ddopat b'mod preċiż b'2% titanju. Ikkaratterizzat mill-uniformità...Aktar -
![4N HfO2 Sputtering Mira]()
4N HfO2 Sputtering Mira4N High-Purity Hafnium Dioxide Sputtering Target (99.99% Purity)—adattat għal applikazzjonijiet f'kisjiet ottiċi, semikondutturi, u elettronika ta 'preċiżjoni. Karatteristiċi ta 'densità għolja,...Aktar -
![Target ta 'Sputtering tal-Karbonju 4N customizable]()
Target ta 'Sputtering tal-Karbonju 4N customizableIl-miri tagħna ta 'sputtering tal-karbonju 4N ta' purità għolja- huma fabbrikati minn materjal ta 'karbonju pur ta' 99.99%, li fih livelli baxxi ta 'impurità u jagħmluhom ideali għal...Aktar -
![B4C Sputtering Target]()
B4C Sputtering TargetBilli juża materja prima tal-karbur tal-boron ta 'purità għolja-, dan il-prodott għandu ebusija eċċezzjonali u stabbiltà termali robusta, li jagħmilha ideali għal applikazzjonijiet fil-manifattura...Aktar -
![Miri tal-Boron Sputtering Custom]()
Miri tal-Boron Sputtering CustomAħna nipprovdu miri tal-boron densi u ta' purità għolja-perfettament adattati għal proċessi ta' semikondutturi u kisi. Aħna nappoġġaw il-fabbrikazzjoni tad-dwana bbażata fuq tpinġijiet tekniċi, li...Aktar -
![Personalizzat 3N5 Round Tungstenu Target]()
Personalizzat 3N5 Round Tungstenu TargetNoffru miri tat-tungstenu ċirkolari magħmula apposta-b'purità 3N5 (99.95%). Manifatturati bl-użu tal-metallurġija tat-trab, għandhom mikrostruttura uniformi, densità għolja, u huma ħielsa minn...Aktar -
![Purità Għolja personalizzata Hf Sputtering Mira]()
Purità Għolja personalizzata Hf Sputtering MiraNoffru miri ta' sputtering ta' l-afnju ta'-purità għolja-magħmula apposta b'purità li taqbeż id-99.9%, li fihom densità uniformi u mikrostruttura fina. Iddisinjati speċifikament għal ċipep...Aktar
Aħna fornituri professjonali ta 'materjal tal-kisi pvd fiċ-Ċina, speċjalizzati fil-forniment ta' servizz personalizzat ta 'kwalità għolja. Aħna nilqgħu bi pjaċir li tixtri materjal ta 'kisi pvd ta' skont fl-istokk hawn u tikseb kampjun b'xejn mill-fabbrika tagħna. Għal konsultazzjoni tal-prezz, ikkuntattjana.