Miri ta' Sputtering taċ-ċeramika

• Ossidu tal-landa (SnO2) Sputtering Mira

  Il-mira tal-ossidu tal-landa (SnO2) hija materjal importanti mhux metalliku inorganiku. Minħabba l-proprjetajiet fiżiċi u kimiċi uniċi tiegħu, għandu rwol importanti f'ħafna oqsma ta 'teknoloġija...

  Aktar
• Ossidu tat-Tantalu (Ta2O5) Sputtering Mira

  It-Tantal Oxide Sputtering Target jista 'jintuża f'semikondutturi, depożizzjoni kimika tal-fwar (CVD), depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD), u applikazzjonijiet ottiċi. Aħna fornitur ta 'Tantalum...

  Aktar
• Ossidu tat-titanju (TiO2) Sputtering Mira

  Id-dijossidu tat-titanju (TiO2) huwa l-pigment abjad l-aktar użat, pereżempju fiż-żebgħa. Għandu luminożità għolja u indiċi ta 'rifrazzjoni għoli ħafna (2.609 għal rutile).

  Aktar
• Ossidu taż-żingu (ZnO) Sputtering Mira

  Ossidu taż-żingu (ZnO) Sputtering Mira użata għal Magnetron Sputtering Deposizzjoni Fiżika tal-Fwar. Diversi dijametri, ħxuna u puritajiet disponibbli biex jissodisfaw il-manifatturi ewlenin...

  Aktar
• Fluworidu tal-Magneżju (MgF2) Mira ta 'Sputtering

  Il-fluworidu tal-manjeżju huwa melħ abjad kristallin u huwa trasparenti fuq firxa wiesgħa ta 'wavelengths, b'użi kummerċjali fl-ottika li jintużaw ukoll fit-teleskopji spazjali. Jiġri b'mod...

  Aktar
• Lithium Kobalt Oxide (LiCoO2) Sputtering Mira

  L-ossidu tal-kobalt tal-litju huwa struttura f'saffi, li tipprovdi mina bidimensjonali għall-migrazzjoni tal-jone tal-litju. Il-mira ta 'sputtering LiCoO2 hija materjal kbir biex isiru batteriji...

  Aktar
• Ossidu tal-Molibdenu (MoO3) Sputtering Mira

  L-Ossidu tal-Molibdenu Sputtering Target jista 'jintuża f'semikondutturi, depożizzjoni kimika tal-fwar (CVD), depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD), u applikazzjonijiet ottiċi. Aħna fornitur ta...

  Aktar
• Ossidu tal-Magneżju (MgO) Sputtering Mira

  L-ossidu tal-manjeżju f'miri ta 'sputtering huwa prinċipalment rifless fil-formazzjoni ta' film b'veloċità għolja, applikazzjoni fl-industriji mikroelettronika u fotovoltajka, proċessi ta...

  Aktar
• Mira tal-Sputtering tad-Disulfid tal-Molibdenu (MoS2).

  MoSi2 hija struttura tetragonali. Hija fażi intermedja bl-ogħla kontenut ta 'silikon fis-sistema ta' liga binarja Mo-Si. Huwa kompost intermetalliku Dalton b'kompożizzjoni fissa, griż u tleqqija...

  Aktar
• Ossidu tan-Nijobju (Nb2O5) Sputtering Mira

  Il-miri tagħna tal-ossidu tan-nijobju huma prodotti bl-użu ta 'pressar bis-sħana vakwu avvanzat, ippressar iżostatiku sħun, sinterizzazzjoni tal-ippressar kiesaħ u proċessi ta' sprejjar termali....

  Aktar
• Ossidu tan-Nikil (NiO) Sputtering Mira

  Il-mira NiO hija materjal użat f'teknoloġiji ta 'tkabbir ta' film irqiq bħal depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD) u depożizzjoni tal-fwar kimiku (CVD). Dawn it-teknoloġiji għandhom rwol ċentrali...

  Aktar
• Target ta' Sputtering tal-Karbur tas-Silikon (SiC).

  Din it-taqsima tiddiskuti l-karatteristiċi bażiċi tal-miri tal-karbur tas-silikon fid-dettall, mill-proprjetajiet kimiċi u fiżiċi tiegħu, metodi ta 'preparazzjoni, għal analiżi komprensiva...

  Aktar