Miri ta' Sputtering taċ-ċeramika
-
![4N ZrO2 Sputtering Mira Bil Cu Backplate]()
4N ZrO2 Sputtering Mira Bil Cu BackplateIl-miri tagħna ta 'sputtering tad-dijossidu taż-żirkonju bi pjanċi ta' rinforz huma fabbrikati bl-użu ta' materjal ta 'dijossidu taż-żirkonju ta' purità għolja-, magħqud b'mod sikur ma 'pjanċa ta'...Aktar -
![ZrC Sputtering Target Bil Cu Backplate]()
ZrC Sputtering Target Bil Cu BackplateIl-miri tagħna ta 'sputtering tal-Karbur taż-Żirkonju (ZrC) bi pjanċi ta' rinforz tar-ram għandhom rabta robusta bejn il-materjal tal-mira ZrC ta 'purità għolja-u l-appoġġ tar-ram. Dan id-disinn...Aktar -
![Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target]()
Ta 5at% Doped ZrC Sputtering TargetDoping preċiż ta 'Zirconium Carbide bi proporzjon atomiku ta' 5 fil-mija ta 'Tantalu jtejjeb b'mod sinifikanti r-reżistenza għat-temperatura għolja-tal-materjal fil-mira, ir-reżistenza għal xokk...Aktar -
![4N IGZO Sputtering Target]()
4N IGZO Sputtering TargetIl-miri tagħna ta 'sputtering 4N IGZO jagħtu prestazzjoni ta' sputtering aktar stabbli u effiċjenti. Speċjalizzati għal applikazzjonijiet ta 'wiri u semikondutturi high-, jiffaċilitaw...Aktar -
![4N HfO2 Mira Bil Cu Backplate]()
4N HfO2 Mira Bil Cu BackplateIl-Mira ta 'Sputtering 4N HfO₂ b'Support tar-Ram tutilizza materjal ta' ossidu ta 'l-afnju ta' purità ta '99.99%. Integrat b'rinforz tar-ram, joffri konduttività termali eċċellenti u huwa...Aktar -
![4N HfO2 Doped B'2% Ti Mira]()
4N HfO2 Doped B'2% Ti MiraIl-mira ta' sputtering ta' HfO₂ 2% Ti-doped hija fabbrikata bl-użu ta' sottostrat ta' ossidu tal-ħafnju ta' purità għolja-, ddopat b'mod preċiż b'2% titanju. Ikkaratterizzat mill-uniformità...Aktar -
![4N HfO2 Sputtering Mira]()
4N HfO2 Sputtering Mira4N High-Purity Hafnium Dioxide Sputtering Target (99.99% Purity)—adattat għal applikazzjonijiet f'kisjiet ottiċi, semikondutturi, u elettronika ta 'preċiżjoni. Karatteristiċi ta 'densità għolja,...Aktar -
![B4C Sputtering Target]()
B4C Sputtering TargetBilli juża materja prima tal-karbur tal-boron ta 'purità għolja-, dan il-prodott għandu ebusija eċċezzjonali u stabbiltà termali robusta, li jagħmilha ideali għal applikazzjonijiet fil-manifattura...Aktar -
![Partiċelli HfC personalizzati]()
Partiċelli HfC personalizzatiDeskrizzjoni Ta 'Partiċelli HfC Personalizzati Partiċelli HfC huma tipikament sintetizzati billi jirreaġixxu d-dijossidu tal-ħafnju (HfO₂) mal-karbonju f'temperaturi għoljin (1900-2300 grad)...Aktar -
![Ossidu tal-landa (SnO2) Sputtering Mira]()
Ossidu tal-landa (SnO2) Sputtering MiraIl-mira tal-ossidu tal-landa (SnO2) hija materjal importanti mhux metalliku inorganiku. Minħabba l-proprjetajiet fiżiċi u kimiċi uniċi tiegħu, għandu rwol importanti f'ħafna oqsma ta 'teknoloġija...Aktar -
![Ossidu tat-Tantalu (Ta2O5) Sputtering Mira]()
Ossidu tat-Tantalu (Ta2O5) Sputtering MiraIt-Tantal Oxide Sputtering Target jista 'jintuża f'semikondutturi, depożizzjoni kimika tal-fwar (CVD), depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD), u applikazzjonijiet ottiċi. Aħna fornitur ta 'Tantalum...Aktar -
![Ossidu tat-titanju (TiO2) Sputtering Mira]()
Ossidu tat-titanju (TiO2) Sputtering MiraId-dijossidu tat-titanju (TiO2) huwa l-pigment abjad l-aktar użat, pereżempju fiż-żebgħa. Għandu luminożità għolja u indiċi ta 'rifrazzjoni għoli ħafna (2.609 għal rutile).Aktar
Aħna professjonali taċ-ċeramika sputtering miri fornituri fiċ-Ċina, speċjalizzati fil-provvista ta ' servizz personalizzat ta ' kwalità għolja. Aħna nilqgħu bi pjaċir li tixtri miri ta 'sputtering taċ-ċeramika ta' skont fl-istokk hawn u tikseb kampjun b'xejn mill-fabbrika tagħna. Għal konsultazzjoni tal-prezz, ikkuntattjana.