Deskrizzjoni Ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target
Il-5 at% Tantalum-Doped Zirconium Carbide Sputtering Target huwa materjal tal-mira ta 'sputtering taċ-ċeramika ta' prestazzjoni għolja-, li jikkonsisti f'matriċi ta 'karbur taż-żirkonju (ZrC) drogat b'5 fil-mija atomiku (at%) ta' tantalu (Ta). Dan il-materjal jgħaqqad il-proprjetajiet eċċezzjonali kemm tal-karbur taż-żirkonju kif ukoll tat-tantalu; permezz tal-modifika tad-doping, il-prestazzjoni ġenerali tagħha hija mtejba aktar, u tagħmilha adattata għal proċessi ta' depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD)-bħal magnetron sputtering-għall-fabbrikazzjoni ta' kisjiet ta' film irqiq-b'attributi funzjonali speċifiċi. Il-materjal fil-mira huwa magħmul primarjament minn karbur taż-żirkonju, materjal taċ-ċeramika kkaratterizzat mill-punt tat-tidwib għoli tiegħu u ebusija għolja. It-tantalu, metall b'punt ta' tidwib-għoli-, għandu storja-stabbilita sew ta' teknoloġija ta' preparazzjoni ta' mira ta'-purità għolja, partikolarment f'oqsma bħall-manifattura tas-semikondutturi. L-inkorporazzjoni ta '5 at% tantalu fl-istruttura tal-kristall tal-karbur taż-żirkonju hija ddisinjata biex tottimizza l-proprjetajiet fiżikokimiċi tal-materjal-jew permezz tal-formazzjoni ta' soluzzjonijiet solidi jew fażijiet komposti-biex jinkisbu għanijiet bħal konduttività elettrika mtejba, stabbiltà mtejba ta'-temperatura għolja, karatteristika elettrika jew mekkanika ta' stabbiltà fit-temperatura u mekkanika films irqaq li jirriżultaw.
Karatteristiċi Ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target
Stabbiltà Termali Eċċezzjonali: Il-karbur taż-żirkonju nnifsu jippossjedi punt ta 'tidwib għoli, filwaqt li l-karbur tat-tantalu (TaC) jiftaħar punt ta' tidwib saħansitra ogħla-li jilħaq sa 3880 grad -li juri stabbiltà kimika notevoli taħt temperaturi estremi. Doping bit-tantalu għandu l-potenzjal li jkompli jtejjeb l-istabbiltà termali ġenerali tal-materjal u r-reżistenza għall-ossidazzjoni f'temperatura għolja-.
Ebusija Superjuri u Reżistenza għall-Ilbes: Kemm il-karbur taż-żirkonju kif ukoll il-karbur tat-tantalu juru ebusija estremament għolja (il-karbur tat-tantalu għandu ebusija Mohs li toqrob id-9). Konsegwentement, kisjiet tal-film irqiq-fabbrikati minn dawn il-materjali għandhom reżistenza eċċellenti għall-ilbies, li tagħmilhom ideali għal applikazzjonijiet ta 'protezzjoni tal-wiċċ li jeħtieġu durabilità għolja.
Inertezza Kimika Eċċellenti: Il-karbur tat-tantalu juri reżistenza eċċezzjonali għall-korrużjoni f'ambjenti li jinvolvu aċidi qawwija, bażijiet b'saħħithom u aġenti ossidanti. Doping bit-tantalu jista 'jsaħħaħ aktar il-kapaċitajiet protettivi tal-films irqaq depożitati mill-materjal tal-mira tal-karbur taż-żirkonju meta esposti għal ambjenti kimiċi ħarxa.
Konduttività Elettrika u Tunabilità Funzjonali: Il-karbur taż-żirkonju jippossjedi konduttività elettrika inerenti. Doping b'tantalu metalliku (li huwa nnifsu huwa konduttur eċċellenti) jista 'jtejjeb b'mod sinifikanti l-konduttività elettrika kemm tal-materjal fil-mira kif ukoll tal-films irqaq depożitati; dan huwa kruċjali għall-fabbrikazzjoni ta 'films li jeħtieġu taħlita ta' reżistenza għall-ilbies u konduttività elettrika. Billi tikkontrolla b'mod preċiż il-proporzjon tad-doping tat-tantalu (eż., f'5 at%), parametri bħar-reżistenza tal-film u s-saħħa mekkanika jistgħu jiġu rfinati biex jissodisfaw ir-rekwiżiti speċifiċi ta 'diversi applikazzjonijiet.
Applikazzjonijiet Ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target
Ilbes-Kisjiet Reżistenti u Protettivi: Applikati għall-uċuħ ta 'għodod tal-qtugħ, forom, u komponenti mekkaniċi kritiċi biex jestendu b'mod sinifikanti l-ħajja tas-servizz tagħhom u jitnaqqas ix-xedd.
Protezzjoni f'Ambjenti -Temperatura Għolja u Korrużivi: Applikata għall-uċuħ ta 'komponenti ta' magni aerospazjali, assemblaġġi ta 'reatturi nukleari, u tagħmir għall-ipproċessar kimiku (bħal kisi tal-pompi u pajpijiet) biex jipproteġu kontra temperaturi għoljin, ossidazzjoni u korrużjoni.
Films irqaq u Elettronika Funzjonali: Il-konduttività elettrika msaħħa tagħha tiftaħ possibilitajiet għall-użu tagħha fil-fabbrikazzjoni ta 'films reżistenti speċjalizzati, saffi ta' barriera tad-diffużjoni, jew ċerti komponenti optoelettroniċi. Filwaqt li t-teknoloġija li tutilizza miri ta'-purità għolja tat-tantalu bħala materjali ta' saff ta' barriera f'interkonnessjonijiet tar-ram semikondutturi hija diġà-stabbilita sew, films tal-karbur taż-żirkonju drogati tat-tantalu-jistgħu joffru soluzzjoni alternattiva għal applikazzjonijiet mikroelettroniċi simili-jew saħansitra aktar impenjattivi-.
Applikazzjonijiet Speċjalizzati Oħra: Impjegat fi proċessi ta' magnetron sputtering għall-fabbrikazzjoni ta' films irqaq ibbażati fuq -zirconju ta' prestazzjoni għolja-; meta drogati, il-proprjetajiet ta 'dawn il-films jistgħu jiġu estiżi aktar għal applikazzjonijiet f'apparati funzjonali bħal kisjiet ottiċi u sensuri.
Speċifikazzjonijiet Ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target
Purità: 99.5%
Formola: Diska, Pjanċa, Kolonna, Stepped, Planar, Rotatorja, jew Personalizzata
Dijametru: 20~205mm / Dia. 1"~8",
Ħoxna 3.175mm, 6.35mm / 0.125" u 0.25"
Oħrajn: Twaħħil tal-Indju
Kontroll tal-Kwalità u Ittestjar Ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target
FAQ Għal Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target
Inti a fabbrika jew amanifattur?
A: Iva, aħna Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target fabbrika, iżda ġeneralment nużaw il-kumpanija kummerċjali tagħna biex nittrattaw in-negozju barra mill-pajjiż. Ikun aktar konvenjenti li tirċievi r-rimessa u tirranġa l-ġarr.
X'inhu l-metodu tal-kunsinna?
A: Ġeneralment, nibagħtu Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target minn UPS, DHL, jew FedEx. Ukoll, nistgħu nibagħtu bil-baħar lejn port tal-baħar jew bl-ajru lejn l-eqreb ajruport.
Għaliex it-Ta 5at% tiegħek Doped ZrC Sputtering Target huwa daqshekk kost-effettiv?
A: Aħna naqtgħu l-pitkala fl-aħħar-biex-temm il-proċess tal-manifattura, u niksbu materja prima direttament mis-sors tagħha.
Tagħmel spezzjoni ta 'kwalità fuq il-postprodotti?
A: 100% spezzjoni sħiħa żgur. Il-Miri kollha ta' Ta 5at% Doped ZrC Sputtering mhux kwalifikati huma mormija.
Kif tiżgura l-ħin taċ-ċomb tiegħek?
A: Mill-preparazzjoni tal-materjal għall-magni u finalment għal spezzjoni sħiħa. Kull stadju tal-produzzjoni huwa mmonitorjat u kkontrollat b'mod strett biex jagħtik ħin tal-kunsinna preċiż.
X'inhu l-MOQ ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target?
A: Jiddependi fuq il-kwantità ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target; ġeneralment, l-ebda limitu MOQ.
Kif tħallas għalil-prodotti?
A: Trasferiment bankarju (T/T) se jkun aċċettabbli.
X'inhu l-ħin tal-kunsinna?
A: Madwar 7-20 jum, li jiddependi fuq il-kwantità u l-produzzjoni ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target.
X'tip ta' pakkett huwa?
A: Ġeneralment, nużaw każ tal-kartun jew każ tal-plywood b'materjal protettiv ġewwa biex niżguraw is-sigurtà ta 'Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Target.
X'inhu l-ħin taċ-ċomb?
A: Mill-ordni mqiegħda sal-merkanzija li tirċievi se tieħu madwar 10-25 jum.
It-tags Popolari: ta 5at% drogati zrc sputtering mira, iċ-Ċina ta 5at% drogati zrc sputtering mira fornituri, fabbrika
