Deskrizzjoni tal-Prodotti

Il-mira ta 'sputtering taż-żirkonju għandha l-istess proprjetajiet bħall-materja prima tagħha. Id-densità tagħha hija 6.49g/cc, il-punt tat-tidwib huwa 1852 grad, u l-pressjoni tal-fwar hija 10 -4 Torr f'1987 grad. Huwa metall ta 'tranżizzjoni tleqq, offwajt, b'saħħtu, simili ħafna għall-ħafnju u sa ċertu punt simili għat-titanju. Iż-żirkonju jintuża prinċipalment bħala materjal refrattarju u opacifier, iżda ammont żgħir ta 'żirkonju jintuża bħala aġent tal-liga minħabba r-reżistenza qawwija għall-korrużjoni tiegħu.

Żirkonju Sputtering Target huwa prodott bit-teknoloġija tat-tidwib, normalment użata għal kisi dekorattiv u kisi ottiku. Il-Miri ta 'Sputtering taż-Żirkonju pur għoli fihom Ħafnju baxx ħafna huwa normalment applikat għall-kamp ottiku, aħna nipprovdu miri standard Hf u Zr għal tagħmir ta' kisi Leybold.

Filwaqt li miri ta 'sputtering taż-żirkonju u katodi ta' l-ark taż-żirkonju b'purità aktar baxxa jintużaw biex isiru films tal-kulur tad-deheb. B'purità sa 99.4%, daqs uniformi tal-qamħ, kontenut ta 'impurità aktar baxx, l-utent aħħari jista' jikseb ebusija tajba, luminożità għolja, kulur reżistenti għall-korrużjoni u l-ossidazzjoni mingħajr kulur jew ittebba għal żmien twil ħafna. Ġejna nipprovdu Zirconium Sputtering Target jew Zirconium arc cathodes għal manifatturi ta 'għassa, oġġetti sanitarji, mirja tal-karozzi, eċċ, li huma adattati għal diversi magni ta' sputtering magnetron u magni tal-kisi tal-jone.

Speċifikazzjoni Kimika

Il-mira tagħna ta 'sputtering ta' purità għolja tista 'tagħmel il-film ikollu livell eċċellenti ta' konduttività elettrika u jimminimizza l-formazzjoni tal-partiċelli matul il-proċess PVD.

Żirkonju (Zr) Speċifikazzjonijiet

Tip ta' Materjal	Żirkonju
Simbolu	Zr
Piż Atomika	91.224
Numru Atomika	40
Kulur/Dehra	Abjad Fidda, Metalliku
Konduttività Termali	22.7 W/m.K
Punt tat-tidwib (grad)	1,852
Koeffiċjent ta 'Espansjoni Termali	5.7 x 10-6/K